文章編號：(1993)04-58-6
成份及微觀結(jié)構(gòu)對涂層硬度及粘結(jié)強度的影響
馬柳鶯1 李曉偉1 劉國純2 卞恒正2
(1.中南工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程系, 長沙410083;
2.株洲硬質(zhì)合金研究所.株洲412000)
摘 要: 測定了物理化學(xué)氣相沉積(PCVD)Ti(C,N)-TiN 涂層和化學(xué)氣相沉積(CVD)Ti(C,N)-TiN 涂層的顯微硬度(Hv)和粘結(jié)強度(Eb)。采用 X 射線衍射實驗、掃描電子顯微術(shù)以及 X 射線光電子譜分析了 PCVD 與 CVD 涂層部分力學(xué)性能間差別的原因。指出涂層擇優(yōu)取向及物相組成是影響涂層硬度的重要因素;涂層-基體粘結(jié)強度與沉積工藝、界面上新相和孔隙的存在密切相關(guān)。
關(guān)鍵字: 化學(xué)氣相沉積 物理化學(xué)氣相沉積 粘結(jié)強度 沉積工藝 硬度
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Abstract:
Key words:
