文章編號(hào)：(1993)04-34-4
Ni-B-SiC化學(xué)復(fù)合鍍液中基體金屬的催化活性
于欣偉1 趙國(guó)鵬2 王逢尹3 王國(guó)斌3
(1. 鞍山鋼鐵學(xué)院硅化合物研究所, 鞍山114002;
2. 北京科技大學(xué)腐蝕系, 北京100083;
3. 東北大學(xué),沈陽(yáng)110006)
摘 要: 以 Ni-B-SiC 化學(xué)復(fù)合鍍液為體系,通過(guò)測(cè)定 Cu 等多種基體金屬的穩(wěn)定電位和電位-時(shí)間曲線,并結(jié)合電子探針微區(qū)分析及觸發(fā)行為,研究了基體金屬在 Ni-B-SiC 化學(xué)鍍液中的催化活性,并探討了在基體金屬表面進(jìn)行的化學(xué)鍍初期過(guò)程機(jī)理。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:基體金屬在化學(xué)鍍液中的穩(wěn)定電位及鍍液溫度尚不能成為基體金屬具有催化活性的充分條件,表面狀態(tài)變化,如鈍化,也是決定基體金屬有無(wú)催化活性的因素。過(guò)渡時(shí)間可幫助判斷基體金屬催化活性的大小。只要基體金屬具有催化活性,鍍層的沉積速度幾乎相等。
關(guān)鍵字: 化學(xué)鍍 基體金屬 穩(wěn)定電位 催化活性 鈍化
（）
Abstract:
Key words:
