文章編號(hào)：(1995)02-89-4
工業(yè)純?chǔ)? Ti氫處理產(chǎn)生的微觀缺陷及其作用①
康強(qiáng)1， 賴祖涵1， 張彩碚1，鄧文2 ，熊良鉞2
(1.東北大學(xué)物理系，沈陽110015；
2.中國科學(xué)院金屬研究所遼寧省材料與氫重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，沈陽110015)
摘 要: 用正電子湮沒、TEM和金相方法研究了不同程度氫處理的工業(yè)純?chǔ)? Ti產(chǎn)生的微觀缺陷及其作用。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：滲氫后材料內(nèi)是單空位，或者是其自由體積相當(dāng)于單空位的點(diǎn)缺陷(如晶界、相界上存在的嚴(yán)重畸變區(qū)缺陷數(shù)量遠(yuǎn)大于除氫后材料內(nèi)的缺陷數(shù)量，當(dāng)滲氫量為0. 58%時(shí)，滲氫后材料內(nèi)的缺陷主要是位錯(cuò)；隨氫含量增加，單空位的數(shù)量也隨之增加；當(dāng)氫含量達(dá)2. 11%時(shí)，其缺陷主要)。TEM和金相觀察表明，滲氫后位錯(cuò)存在于α-Ti基體中。除氫后晶粒明顯細(xì)化。適當(dāng)?shù)臐B氫量引進(jìn)的微觀缺陷，在除氫后可使晶粒細(xì)化而且等軸性高。
關(guān)鍵字: α-Ti 正電子湮沒壽命 Doppler增寬 TEM 滲氫 除氫
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Abstract:
Key words:
