Transactions of Nonferrous Metals Society of China The Chinese Journal of Nonferrous Metals

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中國有色金屬學(xué)報

ZHONGGUO YOUSEJINSHU XUEBAO

第15卷    第12期    總第81期    2005年12月

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文章編號: 1004-0609(2005)12-2023-05
脈沖陰極電沉積羥基磷灰石涂層
趙中偉1, 陳愛良1, 陳星宇1, 孫培梅2, 李洪桂1

( 1. 中南大學(xué) 冶金科學(xué)與工程學(xué)院, 長沙 410083;
2. 中國礦業(yè)大學(xué) 化學(xué)環(huán)境工程學(xué)院, 北京 100083
)

摘 要:  對脈沖陰極電沉積與恒電位陰極電沉積制備的羥基磷灰石涂層膜進(jìn)行了對比實驗。 結(jié)果表明: 由于脈沖電沉積的一個關(guān)斷時間使離子得以從溶液本體向電極表面擴(kuò)散,在下一脈沖來臨時濃差極化的減小有利于HAP的生長; 在一定的導(dǎo)通時間下, 關(guān)斷時間的延長有利于羥基磷灰石的沉積,但時間的過度延長不利于羥基磷灰石的沉積; 當(dāng)通電時間為5 s時, 其最佳關(guān)斷時間為2 s; 沉積時陰極極化的增強(qiáng)雖有利于膜的生長, 但極化過于強(qiáng)烈(陰極電位為-1.0 V(vs SCE)時, 涂層易脫落。

 

關(guān)鍵字:  羥基磷灰石; 涂層; 脈沖電沉積; 恒電位沉積

Pulsed cathode electrodeposition of
hydroxyapatite coatings
ZHAO Zhong-wei1, CHEN Ai-liang1, CHEN Xing-yu1,
SUN Pei-mei2, LI Hong-gui1

1. School of Metallurgical Science and Engineering,
Central South University, Changsha 410083, China;
2. School of Metallurgical and Environmental Engineering,
China University of Mining and Technology, Beijing 100083, China

Abstract: Pulsed cathode electrodeposition was compared with potentiostatic one to prepare hydroxyapatite coatings. The results of pulsed electrodeposition show that there exists a relaxation time which is beneficial to the growth of HAP, due to it enables ions diffuse from bulk to the surface of electrode and reduce concentration polarization in the next pulse time. The increasing pulsed time is also beneficial to the deposition of HAP, but the result is not good if it increases excessively. HAP coatings are easy to drop off in electrodeposition under too intensive polarization, such as at cathode potential of -1.0 V (vs SCE), although it is good for the growth of HAP.

 

Key words: hydroxyapatite; coating; pulsed deposition; potentiostatic electrodeposition

ISSN 1004-0609
CN 43-1238/TG
CODEN: ZYJXFK

ISSN 1003-6326
CN 43-1239/TG
CODEN: TNMCEW

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